微电子和半导体行业专用 >> 旋涂薄膜制备
WD-TSC200T中型6寸匀胶机
产品介绍 性能参数: 适用晶元尺寸范围:Ø10~150mm 旋涂速度:100~10000rpm 转速分辨率:1rpm 旋涂加速度:100-5000rpm/s 最大旋涂时间:3000s 旋涂时间精度:0.1s 可存储多种不同基片的旋转涂敷工艺参数,每个涂敷工艺流程可以设置多步不同的旋转速度 腔体尺寸:Ø270*280*65mm 重量:12KG 配置:标配吸盘一组(10、25、50、100)mm、无油真空泵一台 产品特点: 亚克力透明旋涂内腔,美观;可选PP和PTFE 采用分体式结构,易清洁和移动; 7英寸彩色触屏控制,易学易用; 精确设置实验参数,运行状态实时显示; 采用高级PLC程序控制,可编程,实现快速旋涂和多步编程旋涂; 具有电机进胶保护功能;管路易疏通设计; |
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