一、概述

威德WD-PLM500系列等离子清洗机是一款高端模块化表面处理设备，支持腔体、等离子体源、电源及真空泵等核心部件的灵活选配，为用户提供高度定制化的工艺解决方案。该设备可适配不同材料特性与处理要求，广泛应用于从常规清洗到先进材料研究与精密制造的各类表面处理场景。

设备配备高纯石英或金属腔体(Φ190×200mm)，支持ICP与CCP两种等离子体激发模式，并可选配13.56MHz射频或40KHz中频电源，功率调节范围0～150W。系统集成多路气控与高精度真空系统，极限真空度达9×10⁻¹Pa，配合触摸屏全自动控制，实现稳定、精准的工艺操作与过程监控。

威德WD-PLM500系列以其可扩展的模块设计、可靠的工艺性能与友好的操作界面，为科研与工业用户提供了高效、灵活表面处理平台。

二、设备应用范围

广泛应用于纳米材料学，半导体，微电子，光学，电子学，医药学，环境学，微流控生物学，LED，石墨烯等不同领域。

主要用于以下实验：表面清洁、表面活化、键合、去胶、金属还原、简单刻蚀、器械消毒、去除表面有机物、疏水实验、镀膜。

三、设备主要参数