WD-BCT100高精度刮涂仪

微电子和半导体行业专用 >> 旋涂薄膜制备

WD-BCT100高精度刮涂仪

型号: WD-BCT100
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产品介绍

WD-BCT100 高精度刮涂仪是一款高精度垂直型涂布设备，具有制备速度快、成膜好均一性好等特点，特别适合用于制备大面积钙钛矿电池、燃料电池、OLED 等器件制备。

产品主要特点

1.基片参数
名称：	1-5mm 刚性基材
长宽：	Max: 100*200mm
2.涂层参数
材料粘度：	0.8-500 cps
涂层厚度(湿膜)：	5-100um
3.设备参数
涂布方式：	刮刀刮涂(进口)，唇口粗糙度小于20nm，直线度小于2um
涂布宽度及速度：	MAX100 mm；1-50mm/s(此速度为空载速度，涂布的情况下视实际情况略有差异)
涂布平台：	尺寸：200*350mm；最大涂布长度200mm
刮头与平台距离：	0-10mm，精调单位调节精度0.005mm
涂布精度	进口步进电机+导轨±5%;成膜均匀度±10%
用电：	220 V@50 Hz 最大2KW
仪器尺寸：	长宽高=MAX400300300 mm